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作品名称:胡马雍墓 |
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设计单位: |
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作品地点:印度 |
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主要特征:墓庙的底层为正方形(相当于基台),高7m,边长95m,立面为连续壁龛形式。主体建筑建在底层平台之上,其平面的正方形外轮廓约为60m×60m,至穹顶顶部的高度为38m。建筑的四个立面完全一样,都是三个拱门形式,当中的壁龛式拱门最高大。中央大穹顶坐落在升起的圆柱形底座上,为来自伊朗的球根(洋葱)形,穹顶周围有印度风格的亭子。建筑的立面用红色砂岩作装饰,配合白色大理石镶嵌图案,穹顶表面整体覆盖白色大理石。另外,墓庙与周围的庭园一起规划,展示出了Mughal哈陵为顶峰的、墓庙与庭园相结合的特征。
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